第三百零四章 谋划超S(1/3)
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刘焱当初投资研发光刻机,本来就没想过依靠它盈利,量产型号的光刻机,对外售价只有百万人民币。
这个价格只有国外同类产品的三分之一左右,可谓是物美价廉。
可惜这年月,内地的晶圆工厂大多不成气候,后续订单就算有,也不会有太多。
好在维创电子公司自己就有晶圆工厂,且盈利丰厚,只要自产光刻机能完美替代进口产品,且能跟随摩尔定律不断升级进化,花再多的研发资金也是值得。
表彰大会之后,刘焱召集全体光刻机研发室实验室成员,召开了一个研讨会,对下一步的研发计划和研发方向进行了部署。
在研讨会上,刘焱代表维创电子公司率先发言,说道:
“一微米光刻机已经研发成功,并定型量产,在座的诸位功不可没。
但这一切都已经是过去式,接下来,咱们要在一微米光刻机的基础上,再接再厉,研发微米制程的光刻机。
我代表维创电子公司表个态,不管研发过程中遭遇怎样的困难,需要投入几亿,十几亿,甚至几十亿的研发资金,我们维创电子也在所不惜。
接下来,有请廉教授就下一代光刻机研发计划,做一下总体规划。”
廉安平教授拿出一份手写的稿子,清了清嗓子说道:
“当初刘老板提供的光刻机研发资料中,有一份微米光刻机研发概要,点明了几个研发要点,包括光源,透镜系统,双工台,掩模台等等。
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